http://ir-heater-now.com/fa/tags/baking/ Recent content in Baking on Immediate Infrared Heating Solutions Hugo fa Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800 http://ir-heater-now.com/fa/posts/photoresist-baking-lamp/ Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800 http://ir-heater-now.com/fa/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="لامپ پخت رزیست فوتورزیستی"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، مراحل حرارتی نه تنها «مراحل تغییر دما» هستند، بلکه مرز بین دقت الگوسازی و نیاز به بازسازی را نیز مشخص می‌کنند. فوتورزیست حساس است؛ هرگونه تغییر دمایی می‌تواند باعث اختلالاتی در عملکرد آن شود. اگر دما یک یا دو درجه تغییر کند، یا نقاط گرمی روی ویفر ایجاد شود، کنترل دقت الگو از بین خواهد رفت.</p> <p><strong>از نظر فنی، چه چیزهایی مهم هستند؟</strong> ما از لامپ‌های هالوژنی با طول موج کوتاه در محفظه‌های کوارتزی استفاده می‌کنیم؛ این لامپ‌ها گرمای سریع و خشکی تولید می‌کنند و همچنین میزان ذرات تولید شده نیز کم است. معیار مهم، یکنواختی دما در سراسر ویفر است: ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد. تکرارپذیری فرآیند نیز در همین محدوده باقی می‌ماند؛ بنابراین هر بار، نتایج یکسان خواهد بود.</p> http://ir-heater-now.com/fa/posts/e-beam-resist-baking-heater/ Tue, 09 Jun 2026 00:57:34 +0800 http://ir-heater-now.com/fa/posts/e-beam-resist-baking-heater/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="هیتر پخت رزین اشعه الکترونی"></p> <h1 id="نقشۀ-لیتوگرافی">نقشۀ لیتوگرافی</h1> <p>پخت رزین الکترون‌پرتو (e-beam resist) چیزی مثل گرم کردن ساده نیست. این مرحله کنترل عرض خطوط را تعیین می‌کند. یک انحراف 0.3°C می‌تواند باعث چاپ دیواره‌ای با شیب شود. منطقه سرد می‌تواند باعث باقی‌ماندن فیلم شود که بعداً به صورت جداشدگی هنگام ظهور (develop lift) دیده می‌شود. هیتر پخت رزین الکترون‌پرتو ما برای همین واقعیت ساخته شده است—دمای فرآیند را دقیقاً در جایی حفظ می‌کند که نیاز است، نه جایی که هیتر به آن گرایش دارد.</p>