http://ir-heater-now.com/fa/tags/%D9%87%D8%A7%D9%84%D9%88%DA%98%D9%86/ Recent content in هالوژن on Immediate Infrared Heating Solutions Hugo fa Fri, 03 Jul 2026 03:01:40 +0800 http://ir-heater-now.com/fa/posts/quartz-halogen-infrared-emitter/ Fri, 03 Jul 2026 03:01:40 +0800 http://ir-heater-now.com/fa/posts/quartz-halogen-infrared-emitter/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="فرستنده مادون قرمز هالوژنی کوارتز"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، حتی تغییر نیم درجه‌ای در پارامترهای مربوط به فرآیند «Soft Bake» نیز می‌تواند باعث اختلال در کنترل ابعاد مهم شود. حذف حلال‌ها از روی فوتورزیست نیز به طور یکنواخت انجام نمی‌شود؛ در نتیجه، این خطا در فرآیند «Hard Bake» نیز باقی می‌ماند. یکنواختی دمایی در سراسر ویفر نیز مزیتی نیست؛ بلکه خود بخشی از فرآیند است.</p> <p><strong>آنچه از نظر فنی اهمیت دارد:</strong> فرستنده‌های اینفرارسید هالوژنی، گرما را دقیقاً در جایی که لازم است، و به سرعت، و با کنترل دقیق طیفی، تولید می‌کنند. تابش موج کوتاه این فرستنده‌ها برای جذب بهتر حلال‌ها در فوتورزیست تنظیم شده است؛ بنابراین چرخه‌های پخت سریع و قابل تکرار هستند. ما با استفاده از سیستم کنترل حلقه بسته، یکنواختی دمایی در سراسر ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد حفظ می‌کنیم؛ زمان پاسخگویی این سیستم نیز در میلی‌ثانیه‌ها اندازه‌گیری می‌شود.</p> http://ir-heater-now.com/fa/posts/halogen-lamp-for-rtp-system/ Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800 http://ir-heater-now.com/fa/posts/halogen-lamp-for-rtp-system/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="لامپ هالوژنی برای سیستم RTP"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، تغییر دما در حد ۰.۲ درجه سانتی‌گراد در طول فرآیند گرم کردن ویفر، می‌تواند به طور ناخودآگاه باعث کاهش دقت و کیفیت محصول شود. در سیستم‌های RTP، آن لامپ صرفاً منبع حرارتی نیست؛ بلکه عامل مهمی برای حفظ یکنواختی حرارتی و تکرارپذیری فرآیند است.</p> <p>ما لامپ‌های هالوژنی برای سیستم‌های RTP طراحی می‌کنیم که دارای کنترل دقیق رنگ سپکتری و پاسخ سریعی باشند. شکل رشته‌های فیلامنت، پوشش کوارتزی و مسیر بازتاب نور، همگی به گونه‌ای تنظیم شده‌اند که یک منطقه حرارتی پایدار ایجاد شود؛ به گونه‌ای که یکنواختی دما در سطح ویفر در حد ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باقی بماند. خروجی انرژی لامپ در طول هزاران چرخه ثابت باقی می‌ماند؛ بنابراین بودجه حرارتی مورد نیاز برای فرآیند، از یک سری تولید به سری دیگر تغییر نمی‌کند. ساختار لامپ نیز متناسب با محیط‌های استریل است؛ از موادی با میزان گاز کم استفاده شده و ساختار لامپ به گونه‌ای طراحی شده که میزان ذرات آلاینده کاهش یابد؛ چرا که لیتوگرافی نمی‌تواند با آلودگی تحمل کند.</p>