نیمهرسانا on Immediate Infrared Heating Solutions

لامپ مادون قرمز پوشیده شده با طلا برای نیمههادیها

Sun, 12 Jul 2026 05:34:31 +0800

حفظ ایمنی در هنگام استفاده از لامپ‌های مادون قرمز در کنار مواد شیمیایی منفجره
هنگام تمیز کردن نیمه‌هادی‌ها، در واقع در حال کار با مواد خطرناک هستید. آن حلال‌ها قابل اشتعال هستند؛ در برخی موارد حتی منفجرنده نیز می‌باشند. اگر یک لامپ مادون قرمز معمولی را در آن محیط استفاده کنید، در واقع خودتان مسبب فاجعه می‌شوید.

به همین دلیل از لامپ‌های مادون قرمز با پوشش طلا استفاده می‌کنیم. این لامپ‌ها به طور ویژه برای این مناطق پرخطر ساخته شده‌اند؛ تا بتوانید ویفرها را گرم کنید، بدون اینکه نگران انفجار کل سیستم باشید.

عنصر گرمایشی نیمههادی OEM

Thu, 02 Jul 2026 03:03:45 +0800

در خطوط تولید، تغییر دما در حد ۱ درجه سانتی‌گراد در طول فرآیند پختن فوتورزیست، می‌تواند باعث تغییر عرض خطوط روی ویفر شود؛ این امر منجر به هدررفت مقدار زیادی محصول می‌شود. بنابراین، نباید دما را تغییر داد؛ بلکه باید آن را ثابت نگه داشت. ما عنصر گرمایشی مورد استفاده در این دستگاه‌ها را طوری طراحی کرده‌ایم که کنترل دما روی ویفر انجام شود، نه فقط در سطح مشخص شده.

چه چیزی اهمیت دارد؟
این عنصر از فرستنده‌های مادون قرمز کوتاه‌امواج در بدنه کوارتزی استفاده می‌کند؛ بنابراین سرعت تغییر دما بالا بوده و کنترل دما در حالت پایدار نیز دقیق است. چیزی که اهمیت دارد، یکنواختی دما در سراسر ناحیه فعال ویفر است؛ این مقدار باید بین ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باشد. این دستگاه می‌تواند در اتاق‌های پاکسازی کلاس ۱-۱۰۰ کار کند، بدون اینکه ذراتی ایجاد شود؛ همچنین، نظارت لازم بر عملکرد دستگاه نیز انجام می‌شود. تکرارپذیری خروجی دستگاه نیز در حد ±۰.۲٪ است، حتی در شرایط کار ۲۴/۷. پاسخ حرارتی دستگاه نیز به گونه‌ای تنظیم شده که برای فرآیندهای پختن فوتورزیست مناسب باشد. این دستگاه می‌تواند برای ویفرهای ۲۰۰/۳۰۰ میلی‌متری نیز استفاده شود؛ همچنین، ولتاژ استاندارد و اندازه کوچک آن، آن را مناسب برای استفاده در دستگاه‌های تولیدی می‌کند.

آینده فناوری گرمایش نیمههادیها

Sat, 06 Jun 2026 01:02:53 +0800

در طبقه تولید، انحراف حرارتی در کسری از درجه اندازه‌گیری می‌شود. تغییر 0.5°C در حین پخت فوتورزیست می‌تواند ابعاد حیاتی را جابجا کند و یک منطقه داغ که کنترل نشده باشد، ذراتی را دعوت می‌کند که ویفرها را از بین می‌برند. هدف، دنبال کردن دمای اوج نیست. بلکه کنترل انرژی حرارتی با دقت و قابلیت تکرار است. آنچه از نظر فنی مهم است ما سیستم‌های حرارتی می‌سازیم که یکنواختی سطح ویفر را در ±0.1°C در طول پنجره کامل فرآیند حفظ می‌کنند. تابش‌کننده‌های NIR انرژی سریع و حجمی برای پخت نرم و پخت سخت ارائه می‌دهند، در حالی که کنترل حلقه بسته ثبات نقطه تنظیم را حتی زمانی که ولتاژ خط و بار حرارتی تغییر می‌کند، حفظ می‌کند. سخت‌افزار برای اتاق تمیز کلاس 1–100 طراحی شده است، با تولید صفر ذره که با نظارت در محل تأیید شده است. قابلیت اطمینان برای عملیات بیست و چهار ساعته طراحی شده است. اجزا به گونه‌ای انتخاب شده‌اند که عمر بیش از 5000 ساعت داشته باشند و فواصل نگهداری قابل پیش‌بینی هستند. چرا این سیستم‌ها در لیتوگرافی و پردازش فوتورزیست کار می‌کنند دقت دما به طور مستقیم به کنترل عرض خط و کاهش تعداد دسته‌های بازسازی ترجمه می‌شود. یکنواختی بالا لبه‌های اضافی را کاهش می‌دهد و وفاداری الگو را بهبود می‌بخشد، و پروفایل‌های پخت ثابت، چرخه‌های تأیید را کوتاه می‌کنند در حالی که میزان دورریز کاهش می‌یابد. این سیستم تنها منطقه هدف را گرم می‌کند، بنابراین مصرف انرژی کاهش می‌یابد. قابلیت تکرار، دستورالعمل‌ها را در شیفت‌ها، ابزارها و کارخانه‌ها پایدار نگه می‌دارد. نتیجه افزایش بازده، کاهش هزینه به ازای هر ویفر و زمان کار بدون surprises است. در اینجا چیزی است که باید برای آن برنامه‌ریزی کنید این سیستم‌ها به یک مدار برق اختصاصی نیاز دارند، به علاوه هوای تمیز و خشک برای حفظ پنجره‌های نوری شفاف و سنسورهای حرارتی دقیق. ادغام با ابزارهای ردیابی موجود ساده است، اما پارامترهای کنترل باید به شیمی فوتورزیست خاص و ساختار زیرلایه تنظیم شوند. برای قفل کردن پروفایل پخت، یک دوره کوتاه راه‌اندازی برنامه‌ریزی کنید، سپس کنترل‌های فرآیند را قفل کنید. پس از تنظیم، سیستم به‌طور مشخص عمل می‌کند و بودجه حرارتی در محدوده‌ها باقی می‌ماند.