<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>فوتورزیست on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/fa/tags/%D9%81%D9%88%D8%AA%D9%88%D8%B1%D8%B2%DB%8C%D8%B3%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in فوتورزیست on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/fa/tags/%D9%81%D9%88%D8%AA%D9%88%D8%B1%D8%B2%DB%8C%D8%B3%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ پخت رزیست فوتورزیستی</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/fa/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/fa/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;لامپ پخت رزیست فوتورزیستی&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، مراحل حرارتی نه تنها «مراحل تغییر دما» هستند، بلکه مرز بین دقت الگوسازی و نیاز به بازسازی را نیز مشخص می‌کنند. فوتورزیست حساس است؛ هرگونه تغییر دمایی می‌تواند باعث اختلالاتی در عملکرد آن شود. اگر دما یک یا دو درجه تغییر کند، یا نقاط گرمی روی ویفر ایجاد شود، کنترل دقت الگو از بین خواهد رفت.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;از نظر فنی، چه چیزهایی مهم هستند؟&lt;/strong&gt;&#xA;ما از لامپ‌های هالوژنی با طول موج کوتاه در محفظه‌های کوارتزی استفاده می‌کنیم؛ این لامپ‌ها گرمای سریع و خشکی تولید می‌کنند و همچنین میزان ذرات تولید شده نیز کم است. معیار مهم، یکنواختی دما در سراسر ویفر است: ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد. تکرارپذیری فرآیند نیز در همین محدوده باقی می‌ماند؛ بنابراین هر بار، نتایج یکسان خواهد بود.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
