Lámpara de secado de fotoresist

Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800

En el área de litografía, los procesos de calentamiento suave y duro no son simplemente “pasos térmicos”. En realidad, representan el límite entre una imagen precisa y la necesidad de realizar correcciones que realmente no queremos. El fotopolímero es muy sensible; las fluctuaciones térmicas pueden causar problemas graves. Un error de uno o dos grados, o algún punto caliente en la oblea, puede arruinar todo el proceso.

Lo que realmente importa desde un punto de vista técnico Utilizamos lámparas halógenas de onda corta dentro de envoltorios de cuarzo. Esto permite un calentamiento rápido y eficiente, con poca generación de partículas. La especificación clave es la uniformidad de temperatura en toda la oblea: ±0.1°C. La reproducibilidad también debe ser alta, para que cada proceso sea igual al anterior.

Resistencia de calentamiento para horneado de resina de haz de electrones

Tue, 09 Jun 2026 00:57:34 +0800

En la sala de litografía, el horneado de resist e-beam no es un simple calentamiento. Es el control clave para la precisión del linewidth. Una deriva de 0.3°C puede imprimir una pared lateral inclinada. Un punto frío puede dejar película residual, que luego se manifestará como develop lift. Construimos nuestro calentador de horneado para resist e-beam para operar bajo esa realidad: mantener la temperatura donde el proceso la requiere, no donde el calentador decida estabilizarse.

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Lámpara de secado de fotoresist

Resistencia de calentamiento para horneado de resina de haz de electrones