<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Photoresist on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/de/tags/photoresist/</link>
		<description>Recent content in Photoresist on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/de/tags/photoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Photoresist Backenlampe</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/de/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/de/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Photoresist Backenlampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Bereich der Lithografie sind die Prozesse des Weich- und Hartbrennens keine einfachen „thermischen Schritte“. Es handelt sich dabei um entscheidende Punkte, an denen die Genauigkeit des Musters bestimmt wird – oder auch nicht. Der Fotolack ist empfindlich gegenüber Temperaturschwankungen. Selbst geringfügige Abweichungen können dazu führen, dass die Kontrolle über die CD-Qualität beeinträchtigt wird.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch wichtig ist:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir verwenden Kurzwellenhalogenlampen in Quarzkäfigen – dadurch entsteht schnelle, trockene Wärme mit wenig Staubentstehung. Die entscheidende Parameter ist die Temperaturgleichmäßigkeit auf der Wafer-Oberfläche: ±0,1°C. Die Wiederholgenauigkeit bleibt ebenfalls hoch, sodass jeder Brennvorgang genauso verläuft wie der vorherige.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
