Schnell reagierender Infrarot Heizstab

Fri, 19 Jun 2026 02:09:03 +0800

In der Fertigungshalle stellt die thermische Drift während des Weichbrennvorgangs oder beim Trocknen der Wafer nicht nur ein Problem dar – sie verändert außerdem die wichtigen Abmessungen der Wafer und hinterlässt Rückstände, die wiederum zu Produktverlusten führen. Wir haben daher Infrarotheizkörper mit schneller Reaktionszeit entwickelt, um diese Drift bereits an der Quelle zu beseitigen.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden kurzwellige Infrarot-Halogenelemente in Quarzkapseln – dadurch entsteht eine hohe Strahlungsdichte bei einer Reaktionszeit von unter einer Sekunde. In der aktiven Zone bleibt die Temperatur der Wafer auf ±0,1°C konstant, und die Genauigkeit der Einstelltemperatur liegt nach dem thermischen Prozess weiterhin bei ±0,5°C. Die Leistung bleibt vom Start bis zum stabilen Betriebszustand konstant – es gibt keine Hotspots, die den Fluss des Fotorezysts beeinträchtigen könnten. Die Heizkörper sind für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 geeignet. Dabei werden Materialien verwendet, die eine möglichst geringe Partikelbildung gewährleisten. Man kann mit mehr als 5.000 Betriebsstunden rechnen, wobei der Leistungsverlust weniger als 5% beträgt – selbst bei 24/7-Betrieb.

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Schnell reagierender Infrarot Heizstab