<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezistent on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/cs/tags/fotorezistent/</link>
		<description>Recent content in Fotorezistent on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/cs/tags/fotorezistent/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampa na sušení fotorezistu</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/cs/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/cs/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lampa na sušení fotorezistu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostředí lithografie nejsou procesy „měkkého“ a „tvrdého“ zahřívání jen „termálními kroky“. Jedná se o hranici mezi zachováním přesnosti vzoru a nutností oprav, které rozhodně nechceme. Fotorezistent je citlivý – termické výkyvy nelze tolerovat. I jeden nebo dva stupně odchylky, teplé body na povrchu destičky mohou způsobit problémy s kontrolou jejího tvaru.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je z technického hlediska důležité&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Používáme halogenové lampy s krátkou vlnovou délkou v křemíkovém obalu – rychlé, suché zahřívání s nízkým obsahem částic. Klíčovou hodnotou je rovnomě&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;rnost&lt;/a&gt; teploty po celé ploše destičky: ±0,1 °C. Opakovatelnost je také udržována na stejné úrovni, takže každé zahřívání má stejný výsledek jako minulé.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
