RTP সিস্টেমের জন্য হ্যালোজেন ল্যাম্প

Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800

ফোটোরেজিস্ট বেক প্রক্রিয়ায় ওয়েফারের তাপমাত্রা ০.২°C পর্যন্ত পরিবর্তিত হতে পারে; এর ফলে ওয়েফারের গুণমান ও উৎপাদন ক্ষমতা কমে যেতে পারে। RTP-এ ঐ ল্যাম্পটি শুধুমাত্র তাপ উৎস নয়—এটাই তাপীয় সমতা ও পুনরাবৃত্তিযোগ্যতার নির্ধারক।
আমরা RTP সিস্টেমের জন্য এমন হ্যালোজেন ল্যাম্প তৈরি করি, যেগুলোতে স্পেকট্রাল নিয়ন্ত্রণ ও দ্রুত প্রতিক্রিয়ার ব্যবস্থা রয়েছে। ফিলামেন্টের গঠন, কোয়ার্টজ আবরণ ও রিফ্লেক্টরের গঠন এমনভাবে ডিজাইন করা হয়েছে যাতে ওয়েফারের তাপমাত্রা ±০.১°C এর মধ্যে থাকে। হাজার হাজার চক্র ধরেও ল্যাম্পটি স্থিতিশীল অবস্থায় থাকে; ফলে প্রতিটি চক্রেই তাপীয় অবস্থা অপরিবর্তিত থাকে। এটি ক্লিনরুম-সংগত; কম গ্যাস নির্গমনকারী উপাদান ও কণা-নিয়ন্ত্রিত গঠন ব্যবহার করে এটি তৈরি করা হয়েছে, যাতে লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায় কোনো দূষণ না ঘটে।
লিথোগ্রাফিতে সঠিক তাপমাত্রা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ; আমাদের ল্যাম্পগুলো দ্রুত উচ্চ তাপমাত্রা অর্জন করে, র্যাম্প সময় কমায় এবং তাপীয় অতিরিক্ততা কমায়। এর ফলে প্রতিটি চক্রেই ফোটোরেজিস্টের আচরণ স্থিতিশীল থাকে; পুনরায় কাজ করার প্রয়োজন কমে যায়, আর CD নিয়ন্ত্রণও ভালো থাকে। ল্যাম্পটি চাহিদা অনুযায়ী উত্তপ্ত হয়; ফলে শক্তি ব্যবহার কম হয়। এটি ২৪/৭ চালানোর জন্য ডিজাইন করা হয়েছে; ফলে অপ্রত্যাশিত বন্ধ হওয়ার সমস্যা কমে যায়।
হ্যালোজেন ল্যাম্পগুলো দ্রুত প্রতিক্রিয়া দেয়; কিন্তু ±০.১°C লক্ষ্যমাত্রা বজায় রাখতে স্থিতিশীল বিদ্যুৎ সরবরাহ ও উপযুক্ত শীতলীকরণ ব্যবস্থা প্রয়োজন। ল্যাম্পটিকে চেম্বারের গঠনের সাথে মেলানো উচিত; আর RTP কন্ট্রোলারের সাথে বৈদ্যুতিক সামঞ্জস্য নিশ্চিত করা উচিত। ফিলামেন্টের জীবনকাল সীমিত; তাই প্রক্রিয়ার ধরণ অনুযায়ী ল্যাম্প প্রতিস্থাপনের সময় নির্ধারণ করা উচিত। ল্যাম্পটিকে একটি ক্যালিব্রেটেড কম্পোনেন্ট হিসেবে বিবেচনা করুন; তাহলে আপনার তাপীয় প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণে থাকবে।

আরটিপি on Immediate Infrared Heating Solutions

RTP সিস্টেমের জন্য হ্যালোজেন ল্যাম্প