Hentikan pembaziran masa: Mengapa anda perlu menggunakan sinar inframerah berbanding udara panas
Jika anda masih bergantung pada sistem udara panas untuk proses pemprosesan yang mendalam, sebenarnya anda sedang berjuang melawan waktu sendiri.
Fikirkan bagaimana cara kerja udara panas. Anda memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian berharap udara tersebut dapat memanaskan wafer tersebut. Ia merupakan proses yang lambat dan tidak efisien. Terdapat juga kelewatan akibat masalah termal, yang seterusnya mengurangkan produktiviti anda.
Sinar inframerah pula berbeza. Ia menghilangkan keperluan untuk menggunakan udara sebagai penghantar haba. Sebaliknya, radiasi elektromagnetik digunakan untuk memanaskan wafer secara langsung. Ini merupakan cara yang lebih cepat.
Masalah berkaitan tindak balas termal
Sesiapa yang pernah menggunakan sistem udara panas pasti tahu betapa menyakitkannya masalah “inersia termal”. Anda perlu menunggu waktu yang lama agar suhu mencapai tahap yang diinginkan. Apabila anda memerlukan suhu yang tepat untuk reaksi kimia, udara panas tidak dapat memenuhi keperluan tersebut. Ia terlalu lambat.
Dengan lampu inframerah, suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam beberapa saat sahaja. Ini benar-benar mengubah segalanya. Masa yang diperlukan untuk proses pemprosesan menjadi lebih singkat, dan kelajuan pengeluaran meningkat kerana wafer tidak perlu menunggu bilik pemprosesan mencapai suhu yang stabil.
Pembersihan ruang kerja
Salah satu kelebihan menggunakan sinar inframerah ialah ia membolehkan anda menjimatkan ruang. Anda tidak perlu menggunakan blower yang besar atau saluran udara yang rumit. Lampu inframerah hanya perlu diletakkan di atas atau di bawah wafer. Ini menjadikan susunan ruang kerja lebih bersih dan efisien.
Namun, ada satu cabaran. Kepadatan haba yang dihasilkan oleh sinar inframerah sangat tinggi. Jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik, anda akan menghadapi masalah. Jika sistem penyejukan tidak dapat mengalirkan tenaga berlebihan dari permukaan wafer, maka akan timbul masalah ketidakseimbangan suhu atau kesan negatif pada permukaan wafer.
Beralih kepada sinar inframerah
Jika anda ingin melakukan pengeluaran dalam kuantiti yang banyak, sinar inframerah merupakan pilihan yang terbaik. Ia dapat mengurangkan masa yang diperlukan untuk memproses setiap wafer.
Memang benar, anda perlu menukar oven biasa dengan sistem yang lebih kompleks. Anda perlu meluangkan masa untuk menyesuaikan parameter PID agar suhu tidak melebihi batas yang ditetapkan. Memerlukan sedikit kesabaran untuk mendapatkan hasil yang sempurna.
Namun, setelah semuanya disesuaikan dengan baik, jumlah wafer yang dapat diproses setiap jam akan jauh lebih banyak. Ini tentunya membuat semua usaha yang dilakukan berbaloi.